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VWR 세포 및 조직 배양 접시는 표면 처리를 선택할 수 있습니다.
- 평평한 바닥과 균일한 벽 두께로 왜곡이 없는 바닥 보장
- 광학적으로 투명하여 현미경 관찰에 적합
- 표면이 매끄럽고 줄무늬가 없어 세포 배양 면적 최대화
- 밑바닥 주름 처리로 쉽고 안전하게 쌓을 수 있음
- 전자선 조사로 멸균 처리, DNase,RNase free, 비발열성
세포 부착 표면 증가됨 : 이 고도의 친수성 표면은 기존 세포 배양 표면에 비해 상당한 이점을 제공합니다. 표면 처리로 인해 세포 확장 및 부착을 개선할 수 있습니다. 또한 표면 처리는 cell phenotype, 스트레스가 많은 배양 조건 및 부착을 위해 추가 생물학적 코딩이 필요하기 때문에 잘 부착되지 않는 세포에 적합합니다.
TC-treated: 이 접시는 일관된 세포 부착과 배양을 위해 진공 가스 플라즈마 처리됩니다.
Non treated: 세포 부착이 없어야 할 용도에 적합한 셀 및 티슈 컬쳐 디쉬
작동 온도 범위 : -20 ~ 50°C. 오토클레이브 불가능
증명: ISO 13485:2003 과 ISO 9001:2008 인증됨.
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