EChem Supplies EYPEALDM ECS-Y Plasma-Enhanced Atomic Layer Deposition (PEALD) Machine은 어떤 제품인가요?

EChem Supplies EYPEALDM은 플라즈마를 활용해 저온에서도 고품질 박막을 형성하는 Plasma-Enhanced Atomic Layer Deposition (PEALD) 장비입니다. 주요 사양을 표로 정리해 드리면 다음과 같습니다.

주요 사양

EYPEALDM은 열에너지 대신 플라즈마에서 생성된 라디칼, 이온, 전자 등 반응성 종을 이용해 표면 반응을 유도하는 장비입니다. 최대 8" wafer (200mm*200mm) 샘플을 지원하며, 샘플 스테이지는 RT-500 ℃, precursor bubbler와 ALD 밸브는 RT-200 ℃ 범위의 가열을 지원합니다. 3*50 mL precursor bubblers와 하나의 reaction channel이 포함되며, 요청 시 six precursors와 two reaction channels로 업그레이드할 수 있습니다. MFC는 Max. 200 sccm, RF power는 0-1000 W이며, plasma system은 four gas flows를 지원합니다.

장비 선택 시 처리할 샘플 크기, 필요한 precursor 수와 reaction channel 구성, 플라즈마 및 진공 조건을 확인하시기 바랍니다. 전원과 설치 환경, 공정에 필요한 가스 및 precursor 호환성은 구매 전 별도 확인이 필요하며, 재고·납기·가격은 문의로 확인 가능합니다.

재고·납기는 문의로 확인 가능하며, 요청 시 견적서 발행이 가능합니다.