EChem Supplies ENMCVDS ECS-N Mist Chemical Vapor Deposition (CVD) System은 어떤 제품인가요?

EChem Supplies ENMCVDS는 대기압에서 액상 전구체를 미세 에어로졸로 분무해 박막을 증착하는 Mist Chemical Vapor Deposition (Mist CVD) 시스템입니다. ECS-N Mist Chemical Vapor Deposition (CVD) System (Max. 1200℃, 2" Quartz Tube) for Thin Film Coating 사양을 표로 정리해 드리면 다음과 같습니다.

주요 사양

이 제품은 Ultrasonic Spray Pyrolysis라고도 하는 용액 기반 박막 증착 장비로, 초음파 트랜스듀서가 액상 전구체를 미스트로 원자화하고 carrier gas가 가열된 반응 영역으로 운반합니다. 가열된 기판에서 전구체가 분해되어 고품질의 conformal functional film을 형성하며, NFPP와 NMC 같은 배터리 소재 보호용 코팅에 활용할 수 있습니다. 진공 기반 CVD와 달리 atmospheric pressure에서 작동하는 것이 특징입니다.

선택 시에는 적용할 전구체와 기판, 목표 박막 특성, carrier gas 조건 및 반응 온도를 확인하시기 바랍니다. 제공된 사실 기준으로 Ultrasonic Mist Generation System의 전원은 AC220V±10%, single-phases, 50/60Hz, 55 W이며, Frequency는 2.4 MHz, Peristaltic Pump Flow Rate는 9 mL/min, Gas Flow Meter 범위는 0.5-8 L/min입니다. 실제 공정 조건과 설치 요건은 사용 목적에 맞춰 별도 확인이 필요합니다.

재고·납기는 문의로 확인 가능하며, 필요하신 경우 견적서 발행도 가능합니다.