
RHAWN Tantalum disilicide
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고순도 99.99% 탄탈륨 디실리사이드 시약으로 고온 재료 연구 및 반도체 응용에 적합. 안정적인 화학적 특성으로 정밀 분석 및 실험용으로 활용 가능. 10g 소용량으로 취급이 용이함.
브랜드: RHAWN
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RHAWN Tantalum Disilicide
제품 개요
RHAWN의 탄탈륨 디실리사이드(Tantalum disilicide)는 고순도(99.99%) 금속 실리사이드 화합물로, 고온 내열 재료 및 반도체 연구에 사용됩니다. 우수한 안정성과 순도로 정밀한 실험 및 분석에 적합합니다.
제품 스펙
| 항목 | 내용 |
|---|---|
| Purity | 99.99% (High purity reagent) |
| CAS 번호 | 12039-79-1 |
| 용량 | 10 g |
| 분자식 | Si₂Ta |
| 분자량 | 237.12 |
주요 특징
- 고순도 금속 실리사이드 시약
- 고온 환경에서도 안정적인 특성
- 반도체 및 재료 과학 연구용
- 소용량(10g)으로 실험실 사용에 적합
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배송 정보
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