RHAWN TrisilanolPhenyl POSS
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RHAWN TrisilanolPhenyl POSS

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TrisilanolPhenyl POSS는 고순도 실세스퀴옥산 기반 화합물로, 고분자 개질 및 표면 처리 연구에 적합합니다. 높은 열적 안정성과 우수한 분산성을 제공하며, 다양한 실리콘 소재 연구에 활용 가능합니다.

브랜드: RHAWN
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#RHAWN#Chemicals

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소모품
R168454-100g
RHAWN R168454-100g TrisilanolPhenyl POSS 100g pk
CAS: 444315-26-8단위: pk
재고문의재고: -
1,647,700원
(VAT포함)1,812,470원
R168454-25g
RHAWN R168454-25g TrisilanolPhenyl POSS 25g pk
CAS: 444315-26-8단위: pk
재고문의재고: -
865,900원
(VAT포함)952,490원
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RHAWN TrisilanolPhenyl POSS

RHAWN의 TrisilanolPhenyl POSS는 실세스퀴옥산 구조를 가진 고기능성 실리콘 유도체로, 재료 과학 및 고분자 연구에 사용됩니다. 표면 개질, 나노복합체 제조, 실리콘 수지 강화 등 다양한 응용 분야에 적합합니다.

제품 스펙

항목 내용
CAS 번호 444315-26-8
용량 100 g
분자식 C₄₂H₃₈O₁₂Si₇
분자량 931.355

특징

  • 고순도 POSS 구조체
  • 우수한 열적 및 화학적 안정성
  • 고분자 및 실리콘 소재 연구용
  • 나노복합체 및 코팅제 개발에 활용 가능

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