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RHAWN TrisilanolPhenyl POSS
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TrisilanolPhenyl POSS는 고순도 실세스퀴옥산 기반 화합물로, 고분자 개질 및 표면 처리 연구에 적합합니다. 높은 열적 안정성과 우수한 분산성을 제공하며, 다양한 실리콘 소재 연구에 활용 가능합니다.
- 카탈로그번호
- R168454-xxxx (2개 옵션)
- CAS 번호
- 444315-26-8
- 브랜드
- RHAWN
- 판매단위
- pk
카탈로그
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RHAWN R168454-100g TrisilanolPhenyl POSS 100g pk판매 단위 pk · CAS 444315-26-8 ·
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RHAWN R168454-25g TrisilanolPhenyl POSS 25g pk판매 단위 pk · CAS 444315-26-8 ·
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RHAWN · RHAWN TrisilanolPhenyl POSS
RHAWN TrisilanolPhenyl POSS
RHAWN의 TrisilanolPhenyl POSS는 실세스퀴옥산 구조를 가진 고기능성 실리콘 유도체로, 재료 과학 및 고분자 연구에 사용됩니다. 표면 개질, 나노복합체 제조, 실리콘 수지 강화 등 다양한 응용 분야에 적합합니다.
제품 스펙
| 항목 | 내용 |
|---|---|
| CAS 번호 | 444315-26-8 |
| 용량 | 100 g |
| 분자식 | C₄₂H₃₈O₁₂Si₇ |
| 분자량 | 931.355 |
특징
- 고순도 POSS 구조체
- 우수한 열적 및 화학적 안정성
- 고분자 및 실리콘 소재 연구용
- 나노복합체 및 코팅제 개발에 활용 가능
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