Merck Negative photoresist I
Merck Sigma

Merck Negative photoresist I

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고순도의 Merck Negative photoresist I는 정밀 반도체 및 미세패터닝 공정에 적합한 감광성 수지입니다. 우수한 용해성과 안정된 물성을 제공하며, 정밀한 패턴 구현을 지원합니다. 연구 및 산업용 포토리소그래피 응용에 적합합니다.

브랜드: Merck Sigma
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2026. 01. 28. 오후 05:42
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651796-100ML
Merck 651796-100ML Negative photoresist I, 100ML pk
CAS: -단위: pk
재고문의재고: -
255,600원
(VAT포함)281,160원
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Merck Negative photoresist I

Merck Sigma에서 제공하는 Negative photoresist I는 반도체 및 마이크로패브리케이션 공정에 사용되는 고순도 감광성 수지로, 우수한 패턴 형성 능력과 안정성을 제공합니다.

제품 특성

  • 고순도(97%)의 안정된 화학적 특성
  • 반도체 및 미세패터닝 공정에 적합
  • 우수한 용해성과 재현성

제품 사양

항목 (Attribute) 값 (Value)
Solubility 0.97
Purity 0.97
Flash Point Not applicable
Melting Point 74–78 °C
Molecular Formula C₁₀H₉NS
Molecular Weight 175.25
CAS Number 70010-48-9

적용 분야

  • 반도체 제조용 포토리소그래피
  • 연구용 미세패턴 제작
  • 감광성 수지 기반 소재 연구

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