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1 / 2Merck Negative photoresist I
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고순도의 Merck Negative photoresist I는 정밀 반도체 및 미세패터닝 공정에 적합한 감광성 수지입니다. 우수한 용해성과 안정된 물성을 제공하며, 정밀한 패턴 구현을 지원합니다. 연구 및 산업용 포토리소그래피 응용에 적합합니다.
- 브랜드
- Merck Sigma
- 카테고리
- Other Organics
- 판매단위
- pk
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마지막 업데이트 2026. 04. 23. 오후 10:20
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Merck 651796-100ML Negative photoresist I, 100ML pk판매 단위 pk ·
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255,600원VAT 포함 281,160원
Merck Sigma · Merck Negative photoresist I
Merck Negative photoresist I
Merck Sigma에서 제공하는 Negative photoresist I는 반도체 및 마이크로패브리케이션 공정에 사용되는 고순도 감광성 수지로, 우수한 패턴 형성 능력과 안정성을 제공합니다.
제품 특성
- 고순도(97%)의 안정된 화학적 특성
- 반도체 및 미세패터닝 공정에 적합
- 우수한 용해성과 재현성
제품 사양
| 항목 (Attribute) | 값 (Value) |
|---|---|
| Solubility | 0.97 |
| Purity | 0.97 |
| Flash Point | Not applicable |
| Melting Point | 74–78 °C |
| Molecular Formula | C₁₀H₉NS |
| Molecular Weight | 175.25 |
| CAS Number | 70010-48-9 |
적용 분야
- 반도체 제조용 포토리소그래피
- 연구용 미세패턴 제작
- 감광성 수지 기반 소재 연구
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