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최대 300℃까지 가열 가능한 3단형 핫플레이트. 알루미늄 양극 산화 처리로 내구성이 우수하며, PID 제어로 정밀한 온도 유지 가능. 각 플레이트 독립 사용 가능하며, 균일한 온도 분포 제공. 실험실용 고성능 열판.
- 브랜드
- AS ONE
- 판매단위
- ea
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AS ONE 1-5803-01 1-5803-01 Hot Plate TH-900 ea판매 단위 ea ·
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AS ONE · AS ONE Hot Plate TH-900
AS ONE Hot Plate TH-900
제품 개요
AS ONE의 TH-900은 최대 300℃까지 가열 가능한 3단형 핫플레이트로, 정밀한 온도 제어와 균일한 열 분포를 제공합니다. 알루미늄 양극 산화 처리된 플레이트는 내구성과 열전도성이 뛰어나며, 실험실 및 연구 환경에서 안정적인 가열 작업에 적합합니다.
제품 사양
| 항목 | 사양 |
|---|---|
| 모델 번호 | TH-900 |
| 최고 온도 | 300 ℃ |
| 플레이트 크기 | 150 × 200 mm (3면) |
| 플레이트 재질 | 알루미늄 (양극 산화 처리) |
| 온도 분포 편차 | ±5 ℃ 이내 |
| 제어 방식 | PID 제어 |
| 본체 크기 | 530 × 270 × 137 mm |
| 중량 | 11.5 kg |
| 내하중 | 약 3 kg (플레이트당) |
| 히터 용량 | 450 W × 3 |
| 전원 | AC 100 V, 50/60 Hz, 15 A |
| 전원 코드 길이 | 2.5 m (3P, 접지 핀 포함) |
| 구성 | 3단 직렬형 (tandem type) |
주요 특징
- PID 제어 시스템으로 정밀한 온도 유지
- 3개의 독립 플레이트로 다양한 시료 동시 가열 가능
- 알루미늄 양극 산화 처리로 내식성과 내구성 향상
- 균일한 열 분포로 실험 정확도 향상
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