RHAWN Octa(┚-Chloropropyl)POSS

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RHAWN의 Octa(┚-Chloropropyl)POSS는 유기실란계 POSS 화합물로, 고분자 개질 및 표면 기능화 연구에 적합합니다. 높은 순도(0.92)로 제공되며, 실험실 연구 및 소재 개발용으로 사용됩니다.

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RHAWN R013414-5g Octa(┚-Chloropropyl)POSS 5g pk, 92%판매 단위 pk · CAS 161678-38-2 ·

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412,000원VAT 포함 453,200원

RHAWN R013414-1g Octa(┚-Chloropropyl)POSS 1g pk, 92%판매 단위 pk · CAS 161678-38-2 ·

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362,200원VAT 포함 398,420원

RHAWN R013414-200mg Octa(┚-Chloropropyl)POSS 200mg pk, 92%판매 단위 pk · CAS 161678-38-2 ·

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91,500원VAT 포함 100,650원

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RHAWN의 Octa(┚-Chloropropyl)POSS는 고분자 및 나노복합체 연구에 사용되는 유기실란계 POSS 화합물입니다.
표면 개질, 기능성 소재 개발, 실리카 기반 하이브리드 재료 연구 등 다양한 응용 분야에 활용됩니다.

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