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1 / 2Merck Aldrich(R) Negative Photoresist Kit I
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Merck Sigma의 Negative Photoresist Kit I는 고순도(97%)를 가진 광감응성 포토레지스트로, 정밀한 패턴 형성에 적합합니다. 안정적인 용해도와 분자 특성을 갖추어 반도체 및 마이크로패브리케이션 연구에 활용됩니다.
- 브랜드
- Merck Sigma
- 카테고리
- Other Organics
- 판매단위
- pk
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마지막 업데이트 2026. 04. 23. 오후 10:19
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Merck 654892-1KT Aldrich(R) Negative Photoresist Kit I, 1KIT pk판매 단위 pk ·
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Merck Sigma · Merck Aldrich(R) Negative Photoresist Kit I
Merck Aldrich(R) Negative Photoresist Kit I
Merck Sigma에서 제공하는 Negative Photoresist Kit I는 정밀한 광패턴 형성을 위한 고품질 포토레지스트입니다. 반도체 및 미세가공 연구에 적합하며, 높은 순도와 안정된 물리적 특성을 제공합니다.
제품 스펙
| 항목 | 값 |
|---|---|
| Solubility | 0.97 |
| Purity | 0.97 |
| Flash Point | Not applicable |
| Melting Point | 136–140 °C (lit.) |
| Molecular Formula | C₉H₉ClO₃ |
| Molecular Weight | 200.62 |
| CAS Number | 3284-79-5 |
주요 특징
- 고순도 포토레지스트로 정밀한 패턴 구현 가능
- 반도체 및 마이크로패브리케이션 연구에 적합
- 안정적인 용해도 및 물리적 특성 보유
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