
AS ONE High Frequency Induction Heating Apparatus(Gas Substitution), 고주파 유도 가열 장치(가스 치환식)
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유도가열 방식으로 빠른 가열이 가능하며 예열이 필요 없습니다. 진공 또는 가스 치환으로 산화를 억제하고 재료 특성을 극대화합니다. 터치 패널로 조작이 간편하며 복사 온도계 및 진공 펌프 탑재 모델 선택 가능.
브랜드: AS ONE
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AS ONE High Frequency Induction Heating Apparatus (Gas Substitution)
고주파 유도 가열 장치 (가스 치환식)
특징
- 유도 가열 방식으로 빠른 가열이 가능합니다.
- 복사 온도계 탑재 모델(MUAS-TM)과 진공 펌프 탑재 모델(MUAS-TMPU)이 있습니다.
- 용광로 내 온도를 높이는 것이 아니라 피가열 금속을 직접 가열하므로 예열이 필요하지 않습니다.
- 예: 순철 50n을 3분 이내로 용융 가능
- 전도성 도가니를 사용하여 무기 재료의 간접 가열도 가능합니다.
- 석영관 내 진공 또는 가스 치환이 가능하여 피가열 재료의 산화를 억제하고 특성을 극대화할 수 있습니다.
- 터치 패널 채택으로 설정 및 확인이 용이합니다.
사양
| 항목 | 내용 |
|---|---|
| 외치수 | 460 × 390 × 700 mm (4-6180-01 본체만) |
| 중량 | 약 20 kg |
| 고주파 출력 | 2.8 kW |
| 발진 주파수 | 410 kHz ±10 kHz |
| 출력 제어 | 수동 볼륨을 통한 매뉴얼 제어 |
| 출력 제어 범위 | 20~100% |
| 전원 | 단상 AC 200V 50/60 Hz 20A |
| 부속품 | 전원 케이블 5m(M5 원형 단자 마감) ×1, 냉각수 배관 3m ×2, 알루미늄 도가니, 카본 도가니, 카본 섬유 |
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