Merck NEGATIVE RESIST DEVELOPER I
Merck Sigma

Merck NEGATIVE RESIST DEVELOPER I

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포토레지스트 공정용 네거티브 레지스트 디벨로퍼로, 정밀한 패턴 현상에 적합합니다. 2–8°C에서 안정적으로 보관 가능하며, 낮은 발화점과 일정한 밀도를 갖습니다. Merck Sigma의 신뢰성 있는 품질로 반도체 및 MEMS 연구에 활용됩니다.

브랜드: Merck Sigma
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2026. 01. 28. 오후 05:35
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651788-250ML
Merck 651788-250ML NEGATIVE RESIST DEVELOPER I NEGATIVE RESIST DEVELOPER I pk
CAS: -단위: pk
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(VAT포함)70,510원
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Merck NEGATIVE RESIST DEVELOPER I

Merck Sigma에서 제공하는 네거티브 포토레지스트용 디벨로퍼로, 고정밀 패턴 형성 및 반도체 공정 연구에 사용됩니다.

제품 사양

항목 내용
UNSPSC 분류 12352300
발화점 (Flash Point) 26 °C (closed cup)
끓는점 (Boiling Point) 129–138 °C (lit.)
밀도 (Density) 0.89 g/mL at 25 °C (lit.)
보관온도 (Storage) 2–8 °C
Merck URL https://www.sigmaaldrich.com/US/en/product/ALDRICH/651788?context=product

제품 설명

NEGATIVE RESIST DEVELOPER I — 네거티브 포토레지스트용 현상액으로, 안정적인 화학적 특성과 재현성 높은 결과를 제공합니다.

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