
RHAWN TANTALUM TRIS(DIETHYLAMIDO)-TERT-BUTYLIMIDE
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고순도 탄탈륨 전구체로, 반도체 및 박막 증착 공정에 적합합니다. 99% 이상 순도로 안정적인 증착 특성을 제공합니다. 고순도 trace metals 기준(≥99.99%)을 충족하여 정밀 공정용으로 사용됩니다.
브랜드: RHAWN
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RHAWN TANTALUM TRIS(DIETHYLAMIDO)-TERT-BUTYLIMIDE
RHAWN사의 고순도 탄탈륨 전구체로, 반도체 및 박막 증착(CVD/ALD) 공정에 사용됩니다. 높은 순도와 안정적인 화학적 특성으로 균일한 증착 품질을 제공합니다.
제품 사양
| 항목 | 내용 |
|---|---|
| Purity | 99%, ≥99.99% trace metals basis |
| CAS 번호 | 169896-41-7 |
| 용량 | 1 mL |
| 분자식 | - |
| 분자량 | - |
특징
- 고순도(≥99.99%) trace metals 기준 충족
- ALD/CVD 공정용 탄탈륨 전구체
- 균일한 증착 및 안정적 열적 특성
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