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Intron RNase WiPER™
AI 생성AI가 생성·보정한 이미지예요. AI는 실수할 수 있으니 실제 제품과 다를 수 있어요.
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Intron RNase WiPER™

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RNase 오염을 쉽고 안전하게 제거하는 RNA 작업용 필수 시약. DEPC나 강산을 사용하지 않아 후속 실험에 영향이 없으며, 스프레이 형태로 즉시 사용 가능. 유리, 플라스틱 등 다양한 표면에 적용 가능.

브랜드
Intron
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Intron 21131 RNase WiPER??ea판매 단위 ea ·
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Intron · Intron RNase WiPER™

제품 설명

실험 기구 및 초자 표면의 RNase를 손쉽게 제거할 수 있는 RNA Work의 필수 제품

주요 특징

  • RNase contamination을 효과적으로 제거
  • 높은 농도의 detergent, 강산, 발암성 DEPC 미사용으로 안전성 우수
  • Ready-to-use 스프레이 형태로 즉시 사용 가능
  • Spray 후 Rinse 또는 Wipe만으로 오염 제거 가능
  • 유리, 플라스틱, 피펫 등 멸균이 어려운 초자에 간편 적용
  • RNase뿐 아니라 원치 않는 DNA 오염도 제거 가능

제품 개요

RNase WiPER™는 RNA 실험 시 결과에 큰 영향을 미치는 RNase 오염원을 실험대, 기구 및 초자 표면에서 제거하는 데 사용됩니다. 오염이 예상되는 부위에 분사 후 닦아내는 간단한 방식으로 RNase 제거에 매우 효과적입니다.
본 제품은 DEPC나 고농도 detergent를 사용하지 않아 실험자에게 안전하며, 강산을 포함하지 않아 후속 실험에도 영향을 주지 않습니다.
RNA 작업 환경의 청결 유지에 필수적인 제품으로, RNase inhibitor와는 다른 화학적 성질을 가지므로 반응액 내 직접 투입은 금합니다.

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